비엣텔 AI가 미국 USPTO에서 마스크 착용 상태의 이미지 기반 안면인식 특허를 확보하며 2026년 상반기 두 번째 미국 특허를 추가했다.

비엣텔 AI는 미국 USPTO로부터 마스크 착용 안면인식 특허를 취득해 글로벌 기술력을 입증했다.

2026년 상반기 미국에서만 두 번째 특허로, 비엣텔 AI의 연구·혁신 성과가 다시 확인됐다.

NIST에 따르면 마스크 착용 시 기존 인식 오류율은 20~50%까지 치솟아 신원 확인에 차질이 컸다.

비엣텔 AI는 마스크를 벗지 않고도 본인 확인이 가능한 기술을 개발해 보안·위생 문제를 줄이려 했다.

회사는 향후 기술 고도화와 상용화 확대를 통해 다양한 시장과 공공 보안 분야 적용을 노린다.